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PVD镀膜行业,中国崛起!
所谓PVD(Physical Vapor Deposition)技术,其实是制备薄膜材料的主要技术之一。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展,PVD 镀膜技术被应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。

PVD基本方法包括真空蒸发、溅射、离子镀,其中,溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。

溅射(Sputtering)镀膜技术利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。

被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。

溅射靶材多数应用于半导体芯片、平面显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、电子器件等领域。

全球范围内,溅射靶材产业链各环节参与企业数量基本呈金字塔型分布,高纯溅射靶材制造环节技术门槛高、设备投资大,是典型的技术密集型和资本密集型产业。具有规模化生产能力的少数企业分布在美、日等国,这些企业高居金字塔顶端,对溅射靶材下游产业有很强的议价能力。

大部分溅射靶材比较高端的应用是在超大规模集成电路芯片制造领域,这个领域只有美国和日本的少数公司如日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯等从事相关业务,是一个被跨国公司垄断的行业。

目前国内消费电子行业快速发展,PVD镀膜市场容量不断增加,加上国家政策对国产企业的大力扶持,预计PVD镀膜市场未来会有很光明的前景。

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